无掩膜数字光刻机 MCML-110A

产品特点：采用数字微镜 (DMD) 的无掩膜扫描式光刻机，365nm波长、全自动化的对焦和套刻，易于使用、晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面jue对定位精度0.1um、套刻精度： 0.2um、时间5~30分钟、 500umMin. 线宽、可灰度曝光（128阶）、尺寸小巧，可配合专用循环装置产生内部洁净空间

应用领域：微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工、带有2.5D图案的微光学元件，衍射光器件制作、教学、科研

单价

请咨询客服获得优惠报价。

产品型号

MCML-110A

货期

请咨询客服获得货期。

库存

请咨询客服。

加入询价单

在线咨询

主要参数

详细参数

可选配置表

点击下载文档

核心参数

波长	分辨率
365nm	1.0um

尺寸图

产品推荐

	MCML-110A	MCML-120A
Wavelength 波长	365nm	365nm
Max. frame 最大帧	100mm x 100mm	100mm x 100mm
Resolution 分辨率	1.0um	500nm
Grayscale lithography 灰度光刻	64 levels	128 levels
Max exposure 最大曝光量	500mJ/cm²	2000mJ/cm²
Alignment accuracy 对准精度	<200nm	<100nm
field curvature 场曲率	< 1 um	< 1 um
Speed 速度	5mm² /sec	2.5mm² /sec
Input file 输入文件	BMP, GDSII	BMP, GDSII
Z level accuracy Z级精度	<1 um	<1 um
Environment 环境	20~25℃	20~25℃