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【资讯】锗硅玻璃,光子芯片-光纤级低损耗 | Nature

2026-06-03 18:07:09 行业资讯 3

过去数十年间,在降低电信波段光子集成电路的损耗方面取得了显著进展,促进了片上应用的发展,涵盖了低噪声光学与微波合成、激光雷达以及光子人工智能引擎等领域。然而,在更短波长区间(400–1100 nm),材料吸收和散射损耗显著增加带来了若干障碍,这明显提高了功率需求,并限制了可见光及近可见光谱区域的性能。


图 1 覆盖紫光至近红外波段的超高Q值锗硅酸盐器件

图2 锗硅超低损耗PIC的CMOS兼容性和工艺流程。


加州理工学院Hao-Jing Chen, Kellan Colburn,Kerry Vahala等在Nature上发文,通过完全兼容CMOS代工的工艺实现了一种基于锗硅酸盐的超低损耗光子集成平台(二氧化硅SiO?及锗掺杂二氧化硅(锗硅酸盐)因具备极低的材料吸收特性,在短波长光纤领域得到了广泛应用)。这些光子集成电路在从紫外到电信波长的范围内,实现了超过1.8亿的谐振腔品质因数。


图 3 基于锗硅酸盐平台的应用验证

图4 半导体激光器和锗硅酸盐器件的混合集成。


在电信波段,还实现了无需热处理的、高出10分贝的品质因数,拓展了与有源器件进行异质集成。其他特性包括易于设计的波导色散、声学模式限制以及大模场面积带来的热稳定性——这些特性分别通过孤子微梳生成、受激布里渊激光发射和低频噪声自注入锁定实验得到了验证。


这类锗硅酸盐光子集成电路,最终将实现片上的光纤级损耗,从而在当前最高性能的光子平台基础上,将波导损耗再降低20分贝。同时有望整合超低损耗光子集成电路技术与光学时钟、精密导航系统和量子传感器等。


参考文献: 中国光学期刊网


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