首页 光学分析设备 偏振测量仪 双折射成像系统

双折射成像系统

概述

1、基本定义

一种基于偏振光学原理的精密成像技术,通过检测和分析样品对入射偏振光的双折射效应(即各向异性材料引起的相位延迟和偏振态改变),实现对材料内部结构、应力分布或分子取向的高对比度可视化与定量测量。

2、核心特点

通过偏振态精密调控与干涉测量技术,实现样品各向异性(Δn·d/快轴方向)的纳米级空间分辨与动态可视化,兼具定量分析与实时成像能力。

Sherry

电话:16628709332

邮箱:moli@microphotons.com

微信:

未找到相关产品!

  • 自主研发
  • 私人定制
  • 产品资料
  • 正品行货