光刻系统
1、基本定义
是一种利用光学投影或直写技术将掩模版图形精确转移到涂覆光刻胶的基片（如硅片、玻璃）上的精密设备，通过曝光、显影等工艺实现微米/纳米级图形化，支撑集成电路、MEMS及显示面板制造。
2、核心特点
包括分辨率（≤X nm）、套刻精度（±Y nm）、产率（≥Z片/小时）、曝光均匀性（≤±A%）及光源波长（B nm），确保高精度、高效率的微纳结构加工。
Daisy
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Microlight 3D 打印机
Microlight3D可根据客户的材料，硬件和制造程序插件定制其3D打印机。该公司的打印机已在quan球销售，并已在欧洲，美国，中国，新加坡和台湾销售。 Microlight3D拥有多项**，并已赢得多个奖项，并且未来有很多目标。旨在实现更快的写入速度，这将使更大的微观物体，以及提高精度，体积和表面平滑度，并扩大已经大量的兼容材料。软件改进也在进行中，以实现更复杂的设计和管理更大的文件。
产品信息产品型号 Max. 直写区域 操作
uFAB-3D-微纳米打印系统
uFAB-3D
100 x 75 mm2 加入询价单
无掩模光刻系统Smart Printer UV
Smart Printer UV
70 x 70 mm2 加入询价单
uFAB-3D-微纳米打印系统
uFAB-3D
100 x 75 mm2 加入询价单
无掩模光刻系统Smart Printer UV
Smart Printer UV
70 x 70 mm2 加入询价单
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3um线宽小型桌面台式无掩模光刻系统 PALET DDB-701系列
桌面尺寸无掩模(直接曝光)光刻系统，通过其复杂的软件支持简单的光刻操作。
产品信息产品型号 线宽主体尺寸 操作
桌面台式无掩模光刻系统 电动 PALET DDB-701-DL
DDB-701-DL
3μm 或 115μm300mm (W) × 450mm (D) ×450mm (H) 加入询价单
桌面台式无掩模光刻系统 手动 PALET DDB-701-MS
DDB-701-MS
3μm 或 115μm300mm (W) × 450mm (D) ×450mm (H) 加入询价单
桌面台式无掩模光刻系统 电动 PALET DDB-701-DL
DDB-701-DL
3μm 或 115μm300mm (W) × 450mm (D) ×450mm (H) 加入询价单
桌面台式无掩模光刻系统 手动 PALET DDB-701-MS
DDB-701-MS
3μm 或 115μm300mm (W) × 450mm (D) ×450mm (H) 加入询价单
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MCML-100/MCML-120A SERIES 无掩膜数字光刻机 Digital Maskless Aligner
产品信息产品型号 波长分辨率 操作
无掩膜数字光刻机 MCML-120A
MCML-120A
365nm500nm 加入询价单
无掩膜数字光刻机 MCML-110A
MCML-110A
365nm1.0um 加入询价单
无掩膜数字光刻机 MCML-120A
MCML-120A
365nm500nm 加入询价单
无掩膜数字光刻机 MCML-110A
MCML-110A
365nm1.0um 加入询价单
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