工程散射片 (正方形光斑 发散角46.3° ±5% 正方形2英寸)

RPC公司开创性地采用了高保真的塑料膜层复制法，大批量地在玻璃基片表面复制塑料微透镜薄膜。相比传统的蚀刻、压印、或注塑工艺，RPC工程散射片加工成本会更低。RPC工程散射片是在玻璃基底的表面制作一层塑料的散射片结构，这种Polymer-on-Glass的结构使其同时具有玻璃的耐高温、稳定性好的特点，而且具有高分子聚合物材质的高损伤阈值，高透光率，价格便宜，面形控制精确的特点。 RPC Photonics推出的工程漫射体（Engineered Diffusers），能够把高斯光转化输出成能量分布高度均匀化的光斑，输出光斑的图形包括直线，正方形，圆形，长方形。波长范围400-2000nm，透射效率可达90%，发散角0.16°~120°。是其他普通散射片，如磨砂玻璃散射片，无法做到的。 工程散射片(Engineered Diffuses®)是一种折射光束整形器，它主要作用是把高斯光转化输出成能量分布高度均匀化的光斑，也称为匀光片，工程漫射体。能够通过增加照明场和整形输出强度轮廓来均匀化输入光束。

工程散射片 (正方形光斑 发散角46.3°±5% 圆形1英寸)

RPC公司开创性地采用了高保真的塑料膜层复制法，大批量地在玻璃基片表面复制塑料微透镜薄膜。相比传统的蚀刻、压印、或注塑工艺，RPC工程散射片加工成本会更低。RPC工程散射片是在玻璃基底的表面制作一层塑料的散射片结构，这种Polymer-on-Glass的结构使其同时具有玻璃的耐高温、稳定性好的特点，而且具有高分子聚合物材质的高损伤阈值，高透光率，价格便宜，面形控制精确的特点。 RPC Photonics推出的工程漫射体（Engineered Diffusers），能够把高斯光转化输出成能量分布高度均匀化的光斑，输出光斑的图形包括直线，正方形，圆形，长方形。波长范围400-2000nm，透射效率可达90%，发散角0.16°~120°。是其他普通散射片，如磨砂玻璃散射片，无法做到的。 工程散射片(Engineered Diffuses®)是一种折射光束整形器，它主要作用是把高斯光转化输出成能量分布高度均匀化的光斑，也称为匀光片，工程漫射体。能够通过增加照明场和整形输出强度轮廓来均匀化输入光束。

工程散射片 (正方形光斑 发散角45.9°±5% 正方形2英寸)

RPC公司开创性地采用了高保真的塑料膜层复制法，大批量地在玻璃基片表面复制塑料微透镜薄膜。相比传统的蚀刻、压印、或注塑工艺，RPC工程散射片加工成本会更低。RPC工程散射片是在玻璃基底的表面制作一层塑料的散射片结构，这种Polymer-on-Glass的结构使其同时具有玻璃的耐高温、稳定性好的特点，而且具有高分子聚合物材质的高损伤阈值，高透光率，价格便宜，面形控制精确的特点。 RPC Photonics推出的工程漫射体（Engineered Diffusers），能够把高斯光转化输出成能量分布高度均匀化的光斑，输出光斑的图形包括直线，正方形，圆形，长方形。波长范围400-2000nm，透射效率可达90%，发散角0.16°~120°。是其他普通散射片，如磨砂玻璃散射片，无法做到的。 工程散射片(Engineered Diffuses®)是一种折射光束整形器，它主要作用是把高斯光转化输出成能量分布高度均匀化的光斑，也称为匀光片，工程漫射体。能够通过增加照明场和整形输出强度轮廓来均匀化输入光束。

工程散射片 (正方形光斑 发散角45.9°±5% 圆形1英寸)

RPC公司开创性地采用了高保真的塑料膜层复制法，大批量地在玻璃基片表面复制塑料微透镜薄膜。相比传统的蚀刻、压印、或注塑工艺，RPC工程散射片加工成本会更低。RPC工程散射片是在玻璃基底的表面制作一层塑料的散射片结构，这种Polymer-on-Glass的结构使其同时具有玻璃的耐高温、稳定性好的特点，而且具有高分子聚合物材质的高损伤阈值，高透光率，价格便宜，面形控制精确的特点。 RPC Photonics推出的工程漫射体（Engineered Diffusers），能够把高斯光转化输出成能量分布高度均匀化的光斑，输出光斑的图形包括直线，正方形，圆形，长方形。波长范围400-2000nm，透射效率可达90%，发散角0.16°~120°。是其他普通散射片，如磨砂玻璃散射片，无法做到的。 工程散射片(Engineered Diffuses®)是一种折射光束整形器，它主要作用是把高斯光转化输出成能量分布高度均匀化的光斑，也称为匀光片，工程漫射体。能够通过增加照明场和整形输出强度轮廓来均匀化输入光束。

正弦全息光栅 800nm 25.0 x 25.0 x 6mm 凹槽密度1300g/mm

正弦全息光栅(Sinusoidal Holographic Gratings) 是使用干涉光刻技术生产的。这个过程会产生光滑的凹槽表面并消除在刻划光栅中发现的周期性误差。因此，全息光栅通常用于需要考虑杂散光的应用中。 正弦凹槽轮廓是全息光栅最常见的凹槽形状。凹槽是对称的，因此没有闪耀方向。与闪耀光栅相比，正弦光栅提供更宽的光谱覆盖范围，但效率较低。 我们的库存光栅有 12.5 x 12.5 毫米和 25 x 25 毫米两种尺寸可供选择，但我们可以提供高达 90 x 90 毫米或更大的标准光栅范围。

正弦全息光栅 1053nm 12.5 x 12.5 x 6mm 凹槽密度1740g/mm

正弦全息光栅(Sinusoidal Holographic Gratings) 是使用干涉光刻技术生产的。这个过程会产生光滑的凹槽表面并消除在刻划光栅中发现的周期性误差。因此，全息光栅通常用于需要考虑杂散光的应用中。 正弦凹槽轮廓是全息光栅最常见的凹槽形状。凹槽是对称的，因此没有闪耀方向。与闪耀光栅相比，正弦光栅提供更宽的光谱覆盖范围，但效率较低。 我们的库存光栅有 12.5 x 12.5 毫米和 25 x 25 毫米两种尺寸可供选择，但我们可以提供高达 90 x 90 毫米或更大的标准光栅范围。

正弦全息光栅 1053nm 25.0 x 25.0 x 6mm 凹槽密度1740g/mm

正弦全息光栅(Sinusoidal Holographic Gratings) 是使用干涉光刻技术生产的。这个过程会产生光滑的凹槽表面并消除在刻划光栅中发现的周期性误差。因此，全息光栅通常用于需要考虑杂散光的应用中。 正弦凹槽轮廓是全息光栅最常见的凹槽形状。凹槽是对称的，因此没有闪耀方向。与闪耀光栅相比，正弦光栅提供更宽的光谱覆盖范围，但效率较低。 我们的库存光栅有 12.5 x 12.5 毫米和 25 x 25 毫米两种尺寸可供选择，但我们可以提供高达 90 x 90 毫米或更大的标准光栅范围。

正弦全息光栅 1100nm 12.5 x 12.5 x 6mm 凹槽密度700g/mm

正弦全息光栅(Sinusoidal Holographic Gratings) 是使用干涉光刻技术生产的。这个过程会产生光滑的凹槽表面并消除在刻划光栅中发现的周期性误差。因此，全息光栅通常用于需要考虑杂散光的应用中。 正弦凹槽轮廓是全息光栅最常见的凹槽形状。凹槽是对称的，因此没有闪耀方向。与闪耀光栅相比，正弦光栅提供更宽的光谱覆盖范围，但效率较低。 我们的库存光栅有 12.5 x 12.5 毫米和 25 x 25 毫米两种尺寸可供选择，但我们可以提供高达 90 x 90 毫米或更大的标准光栅范围。

正弦全息光栅 1100nm 25.0 x 25.0 x 6mm 凹槽密度700g/mm

正弦全息光栅(Sinusoidal Holographic Gratings) 是使用干涉光刻技术生产的。这个过程会产生光滑的凹槽表面并消除在刻划光栅中发现的周期性误差。因此，全息光栅通常用于需要考虑杂散光的应用中。 正弦凹槽轮廓是全息光栅最常见的凹槽形状。凹槽是对称的，因此没有闪耀方向。与闪耀光栅相比，正弦光栅提供更宽的光谱覆盖范围，但效率较低。 我们的库存光栅有 12.5 x 12.5 毫米和 25 x 25 毫米两种尺寸可供选择，但我们可以提供高达 90 x 90 毫米或更大的标准光栅范围。

工程散射片 (正方形光斑 发散角21.4°±5% 正方形2英寸)

RPC公司开创性地采用了高保真的塑料膜层复制法，大批量地在玻璃基片表面复制塑料微透镜薄膜。相比传统的蚀刻、压印、或注塑工艺，RPC工程散射片加工成本会更低。RPC工程散射片是在玻璃基底的表面制作一层塑料的散射片结构，这种Polymer-on-Glass的结构使其同时具有玻璃的耐高温、稳定性好的特点，而且具有高分子聚合物材质的高损伤阈值，高透光率，价格便宜，面形控制精确的特点。 RPC Photonics推出的工程漫射体（Engineered Diffusers），能够把高斯光转化输出成能量分布高度均匀化的光斑，输出光斑的图形包括直线，正方形，圆形，长方形。波长范围400-2000nm，透射效率可达90%，发散角0.16°~120°。是其他普通散射片，如磨砂玻璃散射片，无法做到的。 工程散射片(Engineered Diffuses®)是一种折射光束整形器，它主要作用是把高斯光转化输出成能量分布高度均匀化的光斑，也称为匀光片，工程漫射体。能够通过增加照明场和整形输出强度轮廓来均匀化输入光束。

超光滑超高反射率平凹反射镜 1600-1700nm 50.8x9mm

环形激光陀螺仪组件或某些科学应用中的所谓超级镜需要具有极低损耗（即吸收和散射）的镀膜光学元件。这些反射镜还具有 R > 99.998% 和总损耗 < 10 ppm 的Max. 反射率。 筱晓使用德国改进的 IBS 机器，能够在超抛光基材上生产涂层。机器和环境的清洁度在专用的超净室中保持，并在此进行广泛的基材预处理和后处理。 用于检查程序的测量设备，例如白光轮廓仪和高分辨率显微镜（高达 x 1000）已经到位。定制的腔衰荡设置允许以最多四位小数的精度确定反射并参考损耗。

刻线式衍射光栅 波长325-1000nm 25.0 x 25.0 x 6mm

刻线式衍射光栅 (Ruled Gratings) 是通过使用金刚石顶部的工具在基材上的涂层中切割平行凹槽来产生的。这些凹槽被切割成闪耀或“锯齿”轮廓，允许光栅针对给定光谱区域进行优化。这允许刻纹光栅针对光谱的任何区域进行优化。然而，与全息光栅相比，刻划光栅由于周期性误差（也称为重影效应）而表现出更高的杂散光。 我们的库存光栅有 12.5 x 12.5 mm 和 25 x 25 mm 尺寸可供选择，但我们可以提供Max 68 x 68 mm 或更大的标准光栅范围。