1550nm 超高速光纤扰偏器 300KHz

Microphotons的光纤扰偏器是具有产业优秀的高速和低光学损耗性能的非机械装置，为偏振随机化提供了优秀解决方案。 光纤扰偏器基于作为相位延迟器的快速电光材料，其具有分别在0度，45度和0度定向的三个板，分别以三个固定频率驱动。该器件由12V电源供电，无需控制信号，十分方便。它将任何输入的偏振态转换为完全覆盖庞加莱球的随机偏振态，主要应用于光纤通信、光纤传感等领域。可 广 泛 应 用 于 φ -OTDR、BOTDR、OFDR等各种需要脉冲调制的光纤传感系统中。

1550nm超高速光纤扰偏器 2MHz

Microphotons的光纤扰偏器是具有产业优秀的高速和低光学损耗性能的非机械装置，为偏振随机化提供了优秀解决方案。 光纤扰偏器基于作为相位延迟器的快速电光材料，其具有分别在0度，45度和0度定向的三个板，分别以三个固定频率驱动。该器件由12V电源供电，无需控制信号，十分方便。它将任何输入的偏振态转换为完全覆盖庞加莱球的随机偏振态，主要应用于光纤通信、光纤传感等领域。可 广 泛 应 用 于 φ -OTDR、BOTDR、OFDR等各种需要脉冲调制的光纤传感系统中。

1550nm超高速光纤扰偏器 5MHz

Microphotons的光纤扰偏器是具有产业优秀的高速和低光学损耗性能的非机械装置，为偏振随机化提供了优秀解决方案。 光纤扰偏器基于作为相位延迟器的快速电光材料，其具有分别在0度，45度和0度定向的三个板，分别以三个固定频率驱动。该器件由12V电源供电，无需控制信号，十分方便。它将任何输入的偏振态转换为完全覆盖庞加莱球的随机偏振态，主要应用于光纤通信、光纤传感等领域。可 广 泛 应 用 于 φ -OTDR、BOTDR、OFDR等各种需要脉冲调制的光纤传感系统中。

IR级抛光氟化钡Ba​F2窗片 圆形 0.15-12um 10mm Ø x 0.5mm

氟化钡能很好应用于光谱组件。 氟化钡通常适用于无源IR波段（8~14μm）的应用，通常用作热成像的窗片。 对于相同厚度，比氟化钙的透射范围进一步延伸到IR中大约1mm。 主要用于IR应用，并注意到具有IR抛光的视窗可能在由低纯度BaF 2晶体制成的VUV中具有受限的透射性能。 氟化钡通过真空Stockbarger技术生长。 与CaF2不同，BaF2不以天然状态存在，并且所有材料必须化学合成，使得BaF2生产相对昂贵。氟化钡容易裂开，对热冲击非常敏感。它抛光好可以蚀刻。不是所有的晶体都是由zui高等级的化学品制造的; 对于IR级光学器件，较低规格是足够的并且降低了成本，然而在UV和VUV中的透射受到限制。zui高纯度的氟化钡VUV材料可以被认为是快闪烁级。

IR级抛光氟化钡Ba​F2窗片 圆形 打孔 0.15-12um 32mm Ø x 3mm

氟化钡能很好应用于光谱组件。 氟化钡通常适用于无源IR波段（8~14μm）的应用，通常用作热成像的窗片。 对于相同厚度，比氟化钙的透射范围进一步延伸到IR中大约1mm。 主要用于IR应用，并注意到具有IR抛光的视窗可能在由低纯度BaF 2晶体制成的VUV中具有受限的透射性能。 氟化钡通过真空Stockbarger技术生长。 与CaF2不同，BaF2不以天然状态存在，并且所有材料必须化学合成，使得BaF2生产相对昂贵。氟化钡容易裂开，对热冲击非常敏感。它抛光好可以蚀刻。不是所有的晶体都是由zui高等级的化学品制造的; 对于IR级光学器件，较低规格是足够的并且降低了成本，然而在UV和VUV中的透射受到限制。zui高纯度的氟化钡VUV材料可以被认为是快闪烁级。

IR级抛光氟化钡Ba​F2窗片 方形 0.15-12um 10x10x1mm

氟化钡能很好应用于光谱组件。 氟化钡通常适用于无源IR波段（8~14μm）的应用，通常用作热成像的窗片。 对于相同厚度，比氟化钙的透射范围进一步延伸到IR中大约1mm。 主要用于IR应用，并注意到具有IR抛光的视窗可能在由低纯度BaF 2晶体制成的VUV中具有受限的透射性能。 氟化钡通过真空Stockbarger技术生长。 与CaF2不同，BaF2不以天然状态存在，并且所有材料必须化学合成，使得BaF2生产相对昂贵。氟化钡容易裂开，对热冲击非常敏感。它抛光好可以蚀刻。不是所有的晶体都是由zui高等级的化学品制造的; 对于IR级光学器件，较低规格是足够的并且降低了成本，然而在UV和VUV中的透射受到限制。zui高纯度的氟化钡VUV材料可以被认为是快闪烁级。

IR级抛光氟化钡Ba​F2窗片 方形 0.15-12um 16x16x1.5mm

氟化钡能很好应用于光谱组件。 氟化钡通常适用于无源IR波段（8~14μm）的应用，通常用作热成像的窗片。 对于相同厚度，比氟化钙的透射范围进一步延伸到IR中大约1mm。 主要用于IR应用，并注意到具有IR抛光的视窗可能在由低纯度BaF 2晶体制成的VUV中具有受限的透射性能。 氟化钡通过真空Stockbarger技术生长。 与CaF2不同，BaF2不以天然状态存在，并且所有材料必须化学合成，使得BaF2生产相对昂贵。氟化钡容易裂开，对热冲击非常敏感。它抛光好可以蚀刻。不是所有的晶体都是由zui高等级的化学品制造的; 对于IR级光学器件，较低规格是足够的并且降低了成本，然而在UV和VUV中的透射受到限制。zui高纯度的氟化钡VUV材料可以被认为是快闪烁级。

IR级抛光氟化钡Ba​F2窗片 方形 0.15-12um 20x10x1mm

氟化钡能很好应用于光谱组件。 氟化钡通常适用于无源IR波段（8~14μm）的应用，通常用作热成像的窗片。 对于相同厚度，比氟化钙的透射范围进一步延伸到IR中大约1mm。 主要用于IR应用，并注意到具有IR抛光的视窗可能在由低纯度BaF 2晶体制成的VUV中具有受限的透射性能。 氟化钡通过真空Stockbarger技术生长。 与CaF2不同，BaF2不以天然状态存在，并且所有材料必须化学合成，使得BaF2生产相对昂贵。氟化钡容易裂开，对热冲击非常敏感。它抛光好可以蚀刻。不是所有的晶体都是由zui高等级的化学品制造的; 对于IR级光学器件，较低规格是足够的并且降低了成本，然而在UV和VUV中的透射受到限制。zui高纯度的氟化钡VUV材料可以被认为是快闪烁级。

IR级抛光氟化钡Ba​F2窗片 方形 0.15-12um 25x12x2mm

氟化钡能很好应用于光谱组件。 氟化钡通常适用于无源IR波段（8~14μm）的应用，通常用作热成像的窗片。 对于相同厚度，比氟化钙的透射范围进一步延伸到IR中大约1mm。 主要用于IR应用，并注意到具有IR抛光的视窗可能在由低纯度BaF 2晶体制成的VUV中具有受限的透射性能。 氟化钡通过真空Stockbarger技术生长。 与CaF2不同，BaF2不以天然状态存在，并且所有材料必须化学合成，使得BaF2生产相对昂贵。氟化钡容易裂开，对热冲击非常敏感。它抛光好可以蚀刻。不是所有的晶体都是由zui高等级的化学品制造的; 对于IR级光学器件，较低规格是足够的并且降低了成本，然而在UV和VUV中的透射受到限制。zui高纯度的氟化钡VUV材料可以被认为是快闪烁级。

GCA1110070TC300MXXXX-A型增益芯片(TO封装)

IR级抛光氟化钡Ba​F2窗片 胶囊形状 打孔 0.15-12um 41x23x4mm

氟化钡能很好应用于光谱组件。 氟化钡通常适用于无源IR波段（8~14μm）的应用，通常用作热成像的窗片。 对于相同厚度，比氟化钙的透射范围进一步延伸到IR中大约1mm。 主要用于IR应用，并注意到具有IR抛光的视窗可能在由低纯度BaF 2晶体制成的VUV中具有受限的透射性能。 氟化钡通过真空Stockbarger技术生长。 与CaF2不同，BaF2不以天然状态存在，并且所有材料必须化学合成，使得BaF2生产相对昂贵。氟化钡容易裂开，对热冲击非常敏感。它抛光好可以蚀刻。不是所有的晶体都是由zui高等级的化学品制造的; 对于IR级光学器件，较低规格是足够的并且降低了成本，然而在UV和VUV中的透射受到限制。zui高纯度的氟化钡VUV材料可以被认为是快闪烁级。

IR抛光 Al2O3 圆形蓝宝石窗片 0.17-5.5um 12.0X1.0mm

蓝宝石Al2O3 因其极度的韧性和强度可以很好的应用为UV，VIS和NIR光谱波段的光学窗片材料。 蓝宝石具有多种生长方式。 Verneuil和Czochralski方法通常用于标准级蓝宝石材料。 更高质量的蓝宝石，应用于电子基板的由Kyropulos生长制造，这可以得到非常高的纯度，具有优良的紫外透射特性。 在IR中的使用范围被限制在约5μm，并且在任何光学级别中遇到很少的困难。 它在紫外线范围内，必须注意观察，因为从140nm到240nm的透射对杂质和间隙空位非常敏感。大片蓝宝石可以通过色带生长制成。 蓝宝石具有轻微的双折射性，通常的IR窗口通常以随机的方式从晶体切割，也有对于双折射的特定应用，选择取向。 通常这是光轴与表面平面成90度，称为“零度”材料。 合成光学蓝宝石没有着色。 *请注意，所有制造商似乎对热膨胀的实际数字不统一！