IR级抛光氟化钙(CaF2) 窗片 0.13-10um (22.0x1mm 圆形窗口片)

氟化钙广泛应用于光谱CaF2光学视窗，CaF2棱镜和CaF2透镜。 te别是高纯度的氟化钙（CaF 2）在UV和UV准分子激光窗口中的使用。 氟化钙（CaF2）可以掺杂有铕（Eu）作为γ射线闪烁体。所有CaF2透射在红外中没有吸收带。根据透射范围，氟化钙有多种质量等级。 氟化钙（CaF2或萤石）通过真空Stockbarger技术在约250mm的直径下生长。红外应用的晶体通常使用自然矿的萤石生长以降低成本。 它在UV和VUV中将不具有zui佳透射率，并且由于杂质可以在300nm具有吸收带。 对于UV和VUV应用，通常使用化学制备的原料。 对于准分子应用，我们只使用高级别特殊选择的材料和晶体。

PLD-NS 纳秒短脉冲 激光二极管驱动器

PLD-NS是一种紧凑的短脉冲种子激光二极管驱动器，用于为10/14针蝶形激光二极管模块供电，要求脉冲宽度从1ns到100ns。脉冲重复频率可以从1 kHz to 10 MHz.。驱动器电路需要一个单独的5 VDC电源。所有其他所需电压由高频开关电源产生。

IR级抛光氟化钙(CaF2) 窗片 0.13-10um (22.0x3mm 圆形窗口片)

氟化钙广泛应用于光谱CaF2光学视窗，CaF2棱镜和CaF2透镜。 te别是高纯度的氟化钙（CaF 2）在UV和UV准分子激光窗口中的使用。 氟化钙（CaF2）可以掺杂有铕（Eu）作为γ射线闪烁体。所有CaF2透射在红外中没有吸收带。根据透射范围，氟化钙有多种质量等级。 氟化钙（CaF2或萤石）通过真空Stockbarger技术在约250mm的直径下生长。红外应用的晶体通常使用自然矿的萤石生长以降低成本。 它在UV和VUV中将不具有zui佳透射率，并且由于杂质可以在300nm具有吸收带。 对于UV和VUV应用，通常使用化学制备的原料。 对于准分子应用，我们只使用高级别特殊选择的材料和晶体。

IR级抛光氟化钙(CaF2) 窗片 0.13-10um (25.0x0.5mm 圆形窗口片)

氟化钙广泛应用于光谱CaF2光学视窗，CaF2棱镜和CaF2透镜。 te别是高纯度的氟化钙（CaF 2）在UV和UV准分子激光窗口中的使用。 氟化钙（CaF2）可以掺杂有铕（Eu）作为γ射线闪烁体。所有CaF2透射在红外中没有吸收带。根据透射范围，氟化钙有多种质量等级。 氟化钙（CaF2或萤石）通过真空Stockbarger技术在约250mm的直径下生长。红外应用的晶体通常使用自然矿的萤石生长以降低成本。 它在UV和VUV中将不具有zui佳透射率，并且由于杂质可以在300nm具有吸收带。 对于UV和VUV应用，通常使用化学制备的原料。 对于准分子应用，我们只使用高级别特殊选择的材料和晶体。

激光伺服控制器 (慢积分器频率范围800mHz-800Hz) ±2.5V

PI200系列是一种带有PI²环路滤波器的激光伺服控制器。

IR级抛光氟化钙(CaF2) 窗片 0.13-10um (25.0x1mm 圆形窗口片)

氟化钙广泛应用于光谱CaF2光学视窗，CaF2棱镜和CaF2透镜。 te别是高纯度的氟化钙（CaF 2）在UV和UV准分子激光窗口中的使用。 氟化钙（CaF2）可以掺杂有铕（Eu）作为γ射线闪烁体。所有CaF2透射在红外中没有吸收带。根据透射范围，氟化钙有多种质量等级。 氟化钙（CaF2或萤石）通过真空Stockbarger技术在约250mm的直径下生长。红外应用的晶体通常使用自然矿的萤石生长以降低成本。 它在UV和VUV中将不具有zui佳透射率，并且由于杂质可以在300nm具有吸收带。 对于UV和VUV应用，通常使用化学制备的原料。 对于准分子应用，我们只使用高级别特殊选择的材料和晶体。

激光伺服控制器 (慢积分器频率范围8mHz-8Hz) ±2.5V

PI200系列是一种带有PI²环路滤波器的激光伺服控制器。

IR级抛光氟化钙(CaF2) 窗片 0.13-10um (25.0x2mm 圆形窗口片)

氟化钙广泛应用于光谱CaF2光学视窗，CaF2棱镜和CaF2透镜。 te别是高纯度的氟化钙（CaF 2）在UV和UV准分子激光窗口中的使用。 氟化钙（CaF2）可以掺杂有铕（Eu）作为γ射线闪烁体。所有CaF2透射在红外中没有吸收带。根据透射范围，氟化钙有多种质量等级。 氟化钙（CaF2或萤石）通过真空Stockbarger技术在约250mm的直径下生长。红外应用的晶体通常使用自然矿的萤石生长以降低成本。 它在UV和VUV中将不具有zui佳透射率，并且由于杂质可以在300nm具有吸收带。 对于UV和VUV应用，通常使用化学制备的原料。 对于准分子应用，我们只使用高级别特殊选择的材料和晶体。

激光伺服控制器 (慢积分器频率范围800mHz-800Hz)

PI200系列是一种带有PI²环路滤波器的激光伺服控制器。

PLD-CW-2000 恒流半导体激光管驱动器

PLD-CW-2000/PLD-CW-2000-ZIF 是一款恒流半导体激光管驱动器，用于为 10/14 针蝶形半导体激光管模块供电，适用于需要精确低纹波恒流调节的应用。 驱动器电路采用单个 5Vdc 电源供电。该驱动器提供双向比例积分微分 （PID） 热电冷却器控制器 （TEC），电流为 4A，电压为 4V。

IR级抛光氟化钙(CaF2) 窗片 0.13-10um (25.0x2.5mm 圆形窗口片)

氟化钙广泛应用于光谱CaF2光学视窗，CaF2棱镜和CaF2透镜。 te别是高纯度的氟化钙（CaF 2）在UV和UV准分子激光窗口中的使用。 氟化钙（CaF2）可以掺杂有铕（Eu）作为γ射线闪烁体。所有CaF2透射在红外中没有吸收带。根据透射范围，氟化钙有多种质量等级。 氟化钙（CaF2或萤石）通过真空Stockbarger技术在约250mm的直径下生长。红外应用的晶体通常使用自然矿的萤石生长以降低成本。 它在UV和VUV中将不具有zui佳透射率，并且由于杂质可以在300nm具有吸收带。 对于UV和VUV应用，通常使用化学制备的原料。 对于准分子应用，我们只使用高级别特殊选择的材料和晶体。

IR级抛光氟化钙(CaF2) 窗片 0.13-10um (25.4x1mm 圆形窗口片)

氟化钙广泛应用于光谱CaF2光学视窗，CaF2棱镜和CaF2透镜。 te别是高纯度的氟化钙（CaF 2）在UV和UV准分子激光窗口中的使用。 氟化钙（CaF2）可以掺杂有铕（Eu）作为γ射线闪烁体。所有CaF2透射在红外中没有吸收带。根据透射范围，氟化钙有多种质量等级。 氟化钙（CaF2或萤石）通过真空Stockbarger技术在约250mm的直径下生长。红外应用的晶体通常使用自然矿的萤石生长以降低成本。 它在UV和VUV中将不具有zui佳透射率，并且由于杂质可以在300nm具有吸收带。 对于UV和VUV应用，通常使用化学制备的原料。 对于准分子应用，我们只使用高级别特殊选择的材料和晶体。