BBAR（宽带抗反射）硅窗片专为优化光学性能而设计，具备卓越的透光率和低反射特性，适用于广泛的光学应用，包括激光系统、红外成像和传感器设备。
产品特点超宽带减反射；高透过率；低热透镜效应；环境稳定性；多规格可选
型号MP-OPW-Si-C25.4-0.5-B-BBAR货号无
应用领域高功率激光系统 | 红外热成像 | 空间光学 | 半导体加工 | 科研实验
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Moli
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波段 基材 min Tavg
8-12μm Si 88 %
编号 | 型号 | 基材 | min Tavg % |
716.700.640 | BBAR-3000-5000 nm Ø25.4×0.5 mm | Si | 97 % |
716.700.641 | BBAR-3000-5000 nm Ø25.4×1.0 mm | Si | 97 % |
716.700.642 | BBAR-3000-5000 nm Ø100.0×0.5 mm | Si | 97 % |
716.700.643 | BBAR-3000-5000 nm Ø100.0×1.0 mm | Si | 97 % |
716.700.650 | BBAR-8000-12000 nm Ø25.4×0.5 mm | Si | 88 % |
716.700.651 | BBAR-8000-12000 nm Ø25.4×1.0 mm | Si | 88 % |
716.700.652 | BBAR-8000-12000 nm Ø100.0×0.5 mm | Si | 88 % |
716.700.653 | BBAR-8000-12000 nm Ø100.0×1.0 mm | Si | 88 % |
716.701.360 | BBAR-2500-14000 nm Ø25.4×0.5 mm | Si | 2.5-14 µm 70 % |
716.701.370 | BBAR-2500-14000 nm Ø25.4×1.0 mm | Si | 2.5-14 µm 70 % |
716.701.340 | BBAR-2500-14000 nm Ø100.0×0.5 mm | Si | 2.5-14 µm 70 % |
716.701.350 | BBAR-2500-14000 nm Ø100.0×1.0 mm | Si | 2.5-14 µm 70 % |
一般规格：
直径公差：Ø25.4 mm +0/-0.2 mm，Ø75.0 and Ø100.0 mm +0/-0.3 mm
厚度公差：+/- 0.2 mm
表面光洁度：S&D 60/40
CA：90 % center
每个窗片都提供室温和法向入射角下的光谱曲线。
无
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