首页 光纤型元器件 光纤和光纤跳线 多模光纤 DUV深紫外碳涂层H2氢饱和多模光纤 190-800nm ZLDUV CPH(二氧化硅/阶跃指数/耐日晒) DUV深紫外碳涂层H2氢饱和多模光纤 190-800nm (ZLDUV CPH 耐日晒二氧化硅阶跃指数光纤)
  • DUV深紫外碳涂层H2氢饱和多模光纤 190-800nm (ZLDUV CPH 耐日晒二氧化硅阶跃指数光纤)

    高OH含量熔融二氧化硅材料的卓越纯度保证了在UV-VIS波长下的优异透明度,使光导ZLDUV CPH光纤是无限制应用的Shou选。这种光纤类型的二氧化硅/二氧化硅结构在从传输到损伤阈值水平的许多参数中提供了zui高的光学性能。这种纤维是氢饱和的,并涂有HERMETICAL CARBON(密封碳)层。氢气与通过紫外线照射产生的缺陷反应,确保卓越的透射性。

    产品特点改进的透射率;碳涂层抗辐照设计;阶跃折射率多模光纤;阶跃折射率;耐日晒

    产品货号C80010535

    应用领域医用激光 | 工业激光 | 高功率激光输送 | 紫外输送系统 | 分析传感

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    Sherry

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    邮箱:moli@microphotons.com

    主要参数
  • 核心参数
  • 工作波长 可用纤芯直径

    190-800nm 70-600 um

  • 尺寸图
  • 核心参数

    物理属性


    可用纤芯直径 Ø:

    70-600 um

    可根据要求放大

    纤芯形状:

    圆形(标准)

    光纤层的标准公差:

    纤芯 ± 2%

    反射包层 ± 2%

    夹套 ± 5%

    操作温度:

    -190 to +150°C

    CCDR ( clad to core ratio 包芯比):

    1.10和定制

    验证试验:

    100或70 kpsi

    弯曲半径, mm

    瞬时:50 x玻璃直径,mm

    长期:120 x玻璃直径,mm

    光学特性


    光谱衰减

    见下图1

    紫外线在214nm处引起的透射变化和恢复

    见下图2

    工作波长范围:

    190-800 nm

    NA (数值孔径):

    0.22± 0.02

    化学特性


    芯材:

    熔融合成二氧化硅

    芯材中OH含量:

    600...800 ppm

    反射包层材料:

    掺氟二氧化硅

     

    特性曲线

    图1 典型 ZLDUV...CPH 光纤的光谱衰减

    6476ac7f55071.png

    图2 ZLDUV...CPH 光纤在 214nm 处的日晒,氘灯照射,光纤长度 2 m


    6476ac9196021.png

     *ZLDUV CPH 氘灯去除辐照后CPH的及时恢复

    可选配置表

    产品资料

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