桌面尺寸无掩模(直接曝光)光刻系统，通过其复杂的软件支持简单的光刻操作。
产品特点电动XYZθ载物台；LED光源；最小线宽3μm/15μm；最大曝光区域25mm×25mm；支持DXF/JPEG/PNG/BITMAP/XPS文件格式
产品货号E80100175
应用领域MEMS器件试制 | 微流控芯片加工 | 传感器图案制作 | 光电子器件开发 | 科研级微纳结构制备
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Daisy
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线宽 主体尺寸
3μm 或 115μm 300mm (W) × 450mm (D) ×450mm (H)
曝光示例
电路/传感器模式
电路图 | 晶体管图案 | 磁性传感器模式 |
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三维结构*×2 仅物镜
高向柱结构 | 厚膜流体路径结构 | 胚胎干细胞培养结构 |
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型号 | DDB-701-MS | DDB-701-DL |
载物台(Stage) | 手动 XYZθ载物台 | 电动 XYZθ载物台 |
曝光光源 | 365nm (typ.) LED | |
Min. 线宽 | 3μm *1 | |
单次曝光面积 | 1mm×0.6mm *1 | |
每张照片曝光时间*3 | 1～2 sec. *1 | |
Max. 曝光区域 | 25mm×25mm(手动连接) | 25mm×25mm(自动连接) |
可接受的工作尺寸 | 60mm ×60mm (t3mm) | |
相容文档格式 | DXF, JPEG, PNG, BITMAP, XPS | |
主体尺寸 | 300mm (W) × 450mm (D) ×450mm (H) | |
主机重量 | 30kg | |
*1在使用×10物镜的情况下
*2在使用×2物镜的情况下
*3曝光时间基于AZP系列光刻胶(t0.5mm)
无
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