近场全息相位掩模板是一种面向半导体晶圆及集成光学器件微纳光栅制造的高精度衍射光学元件。产品采用 0/-1 级衍射原理，通过零级与负一级衍射光的自干涉形成与相位掩模板周期相同的高对比度干涉条纹，可实现小周期、高精度及大面积光栅结构的制造。产品采用全息工艺在洁净室环境中制造，具有高周期精度、高周期均匀性、>98% 条纹可见度以及低缺陷率等特点，尤其适用于 DFB 激光器、DBR 激光器、平面集成光学、传感器及生物芯片等领域，可结合掩模对准设备用于微纳光栅的批量化制造。
产品特点超小光栅周期；高精度、高均匀性；高条纹可见度；适用于大面积及批量制造
型号MP-NFH-PM-200-600-0.01
应用领域DFB 激光器 | DBR 激光器 | 集成平面光学 | 传感器与生物芯片
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Sherry
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光栅周期范围 周期精度 照明波长
200～600 nm ±0.01 nm 193–1065 nm
技术规格表
参数 | 指标 |
衍射原理 | 0/-1 级衍射 |
光栅周期范围 | 200～600 nm |
典型最小周期能力 | 低至 260 nm |
照明波长范围 | 193～1065 nm |
基底材料 | 熔融石英 |
周期精度 | ±0.01 nm |
周期均匀性 | ±0.01 nm |
条纹可见度 | >98% |
制造方式 | 全息制造 |
制造环境 | 洁净室环境 |
定制规格 | 支持 |
工作原理图
标准光栅及基片尺寸
光栅尺寸 | 基片尺寸 |
Ø2″ | 3″ × 3″ × 2 mm |
定制光栅尺寸 | 5″ × 5″ × 90 mil |
无
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