2000-5000nm中性密度滤光片

提供多种密度等级，满足不同光强需求，确保最佳成像质量和细节保留。使用高质量材料制造，具有耐久性和稳定性。

2000-16000nm中性密度滤光片

提供多种密度等级，满足不同光强需求，确保最佳成像质量和细节保留。使用高质量材料制造，具有耐久性和稳定性。

200-2500nm中性密度滤光片

提供多种密度等级，满足不同光强需求，确保最佳成像质量和细节保留。使用高质量材料制造，具有耐久性和稳定性。

4720nm红外滤光片

高透过率，减少光学系统的信号损失，提升光学系统的性能，适用于激光系统、光谱分析、气体分析和其他高端光学应用。

4525nm红外滤光片

高透过率，减少光学系统的信号损失，提升光学系统的性能，适用于激光系统、光谱分析、气体分析和其他高端光学应用。

4265nm红外滤光片

高透过率，减少光学系统的信号损失，提升光学系统的性能，适用于激光系统、光谱分析、气体分析和其他高端光学应用。

3050nm红外滤光片

高透过率，减少光学系统的信号损失，提升光学系统的性能，适用于激光系统、光谱分析、气体分析和其他高端光学应用。

1032nm脉冲压缩光栅

高分辨率，高精度，卓越的信号过滤和处理能力，确保信号的稳定性，提升光学系统性能，适用于光通信、光谱分析和传感系统。

1550nm脉冲压缩光栅

高分辨率，高精度，卓越的信号过滤和处理能力，确保信号的稳定性，提升光学系统性能，适用于光通信、光谱分析和传感系统。

800nm脉冲压缩光栅

高分辨率，高精度，卓越的信号过滤和处理能力，确保信号的稳定性，提升光学系统性能，适用于光通信、光谱分析和传感系统。

2.5-14μm宽带抗反射 (BBAR) 硅Si窗片

BBAR（宽带抗反射）硅窗片专为优化光学性能而设计，具备卓越的透光率和低反射特性，适用于广泛的光学应用，包括激光系统、红外成像和传感器设备。

8-12μm宽带抗反射 (BBAR) 硅Si窗片

BBAR（宽带抗反射）硅窗片专为优化光学性能而设计，具备卓越的透光率和低反射特性，适用于广泛的光学应用，包括激光系统、红外成像和传感器设备。