具有高分辨率和效率的多功能光谱仪 随着在半导体制造中使用 13.5 nm辐射的 EUV 光刻技术的发展，极紫外辐射（EUV、XUV）已成为一个重要的工业意义。这导致对高分辨率和灵敏的诊断和测量技术的需求。因此，我们构建了一个模块化的 XUV / EUV 和软 X 射线光谱仪，可用于等离子体光谱学、源诊断和计量学。它te别适用于激光等离子体源（LPS）和高次谐波源（高次谐波产生high harmonic generation，HHG）。
产品特点宽光谱范围；高分辨率；模块化设计；高真空兼容；多模式操作
型号MP-OSA-XUV/EUV
应用领域半导体EUV光刻 | 激光等离子体源（LPS）诊断 | 高次谐波（HHG）研究 | 同步辐射计量 | 材料科学
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Daisy
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光谱范围
2-100 nm
宽带高光谱分辨率
普通光谱仪针对一个波长的特定分辨率进行了优化。相比之下，我们的专业设计可在宽带宽下实现高分辨率。例如，我们的 XUV 光谱仪在 12-41 nm 的整个带宽内达到
操作方式及可用性
我们灵活的光谱仪提供多种操作模式，可以在操作过程中改变。
通过使用行程范围为几厘米的多轴电动工作台，用户可以轻松地对设备进行校准。此外，可以在光束路径中在线放置不同的光学器件来测量不同的光束特性。该光谱仪具有以下工作模式:(1)XUV光束检测，(2)角分辨光谱，(3)高效、光谱分辨率高的成像光谱。
下图为角分辨光谱(a、b)和成像光谱(c、d)的测量结果。
无
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