190–850 nm UV-VIS光谱仪是一款面向紫外-可见光谱分析及OEM系统集成的紧凑型宽带光谱仪，单台设备即可覆盖 190–850 nm 紫外至可见光波段。系统采用高效率透射光栅及 Mirror-Grating-Mirror（MGM）光学结构，在 54 × 48 × 16 mm 的紧凑尺寸内实现宽光谱覆盖、高光通量及稳定的光谱性能。系统采用近无热化结构设计，温度引起的波长漂移 <0.02 nm/°C，适用于吸收、透射、反射、荧光以及紫外-可见光谱检测等应用。
产品特点宽光谱覆盖；高分辨率与低杂散光；高光通量与高稳定性；紧凑易集成
型号MP-UV-VIS-190-850
应用领域紫外-可见吸收与透射光谱分析 | 荧光与发射光谱检测 | 光源与材料表征 | OEM与工业在线检测
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光谱范围 光谱分辨率
190–850 nm 1.3 nm
技术规格表
参数 | 指标 |
波长范围 | 190–850 nm |
波长准确度 | ≤0.5 nm |
典型分辨率 | 1.3 nm |
数值孔径 NA | 0.15 |
单色杂散光 | <0.03% |
标准狭缝宽度 | 12.5 / 35 / 50 / 70 / 125 μm |
狭缝高度 | 250 μm；750 μm |
光学输入 | SMA905 / 自由空间耦合 |
光学结构 | Mirror-Grating-Mirror（MGM） |
分光元件 | 高效率透射光栅 |
探测器 | CMOS / BT-CCD |
电气接口 | SPI / USB 2.0 |
温度波长漂移 | <0.02 nm/°C |
工作温度 | 0～+50°C，非冷凝 |
存储温度 | -40～+65°C |
外形尺寸 | 54 × 48 × 16 mm |
重量 | 约70 g |
衍射效率曲线图
无
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