SESAM 可饱和吸收镜(半饱和吸收片) 1064nm

BATOP 现已成为用于被动锁模激光器的可饱和吸收体的优秀供应商。可饱和吸收产品集合了各式各样的不同的器件，从可饱和吸收镜(SESAM)，到可饱和输出镜(SOC)和用于透过应用的可饱和吸收体(SA)。迄今为止，可饱和吸收产品已经覆盖了800nm到2.6μm的常用激光波长范围。

SESAM 可饱和吸收镜(半饱和吸收片 单模光纤跳线 弛豫时间τ 1ps) 1030nm

BATOP 现已成为用于被动锁模激光器的可饱和吸收体的优秀供应商。可饱和吸收产品集合了各式各样的不同的器件，从可饱和吸收镜(SESAM)，到可饱和输出镜(SOC)和用于透过应用的可饱和吸收体(SA)。迄今为止，可饱和吸收产品已经覆盖了800nm到2.6μm的常用激光波长范围。

软磁层评价系统 BH-618HS-P20

软磁层的非接触式评估系统，例如具有映射和倾斜角测量功能的硬盘介质中的 SUL。

SESAM 可饱和吸收镜(半饱和吸收片 保偏光纤跳线 弛豫时间τ 3ps) 1030nm

BATOP 现已成为用于被动锁模激光器的可饱和吸收体的优秀供应商。可饱和吸收产品集合了各式各样的不同的器件，从可饱和吸收镜(SESAM)，到可饱和输出镜(SOC)和用于透过应用的可饱和吸收体(SA)。迄今为止，可饱和吸收产品已经覆盖了800nm到2.6μm的常用激光波长范围。

SESAM 可饱和吸收镜(半饱和吸收片 单模光纤跳线 弛豫时间τ 18ps) 1030nm

BATOP 现已成为用于被动锁模激光器的可饱和吸收体的优秀供应商。可饱和吸收产品集合了各式各样的不同的器件，从可饱和吸收镜(SESAM)，到可饱和输出镜(SOC)和用于透过应用的可饱和吸收体(SA)。迄今为止，可饱和吸收产品已经覆盖了800nm到2.6μm的常用激光波长范围。

CMOS光谱相机 550-600nm (马赛克捕捉I型 集成FP腔像素滤波器 4×4 MOSAIC 半波长6nm)

我们自主研发的光谱相机的核心部件是业务部门开发的图像传感器。核心部件是集成FP腔像素滤波器CMOS图像传感器，该传感器体积小，集成度高。传感器涂层形式包括马赛克布局和线扫描布局。光谱范围涵盖可见光近红外范围，共有四种型号。相机原始图像分辨率为2352×1768。

极紫外和软x射线辐射EUV显微镜 (Metrology计量学 无损亚纳米级次表面成像)

三维无损成像技术在材料科学和医学等许多应用领域都非常重要。我们开发了一种成像技术，利用极紫外和软x射线辐射来获得纳米分辨率的横截面图像。 例如，我们能够无损地研究硅片或生物样品中的近表面结构。 在下边的图片中，你可以看到几个埋在硅下的金层。它们的位置可以用我们的计量仪测量，精度低于1nm。这些层位于表面下的110 nm和128 nm处。

CMOS光谱相机 700-950nm (马赛克捕捉II型 集成FP腔像素滤波器 4×4 MOSAIC 半波长10nm)

我们自主研发的光谱相机的核心部件是业务部门开发的图像传感器。核心部件是集成FP腔像素滤波器CMOS图像传感器，该传感器体积小，集成度高。传感器涂层形式包括马赛克布局和线扫描布局。光谱范围涵盖可见光近红外范围，共有四种型号。相机原始图像分辨率为2352×1768。

CMOS光谱相机 550-600nm (线扫描I型 集成FP腔像素滤波器 半波长6nm)

我们自主研发的光谱相机的核心部件是业务部门开发的图像传感器。核心部件是集成FP腔像素滤波器CMOS图像传感器，该传感器体积小，集成度高。传感器涂层形式包括马赛克布局和线扫描布局。光谱范围涵盖可见光近红外范围，共有四种型号。相机原始图像分辨率为2352×1768。

热辅助磁记录介质的非接触HAMR/TAMR评估系统

产生磁场±6.5T的热（Thermal）辅助磁记录介质（HAMR或TAMR）非接触评估系统。

CMOS光谱相机 550-600nm (线扫描II型 集成FP腔像素滤波器 半波长4nm)

我们自主研发的光谱相机的核心部件是业务部门开发的图像传感器。核心部件是集成FP腔像素滤波器CMOS图像传感器，该传感器体积小，集成度高。传感器涂层形式包括马赛克布局和线扫描布局。光谱范围涵盖可见光近红外范围，共有四种型号。相机原始图像分辨率为2352×1768。

SWIR 短波红外波前传感器 SWIR320 (传感器分辨率 320x256)

短波红外 快速、出色的灵敏度和低噪音 SWIR 光谱范围的理想解决方案 具有出色的灵敏度、帧速率和准确性。它是计量和变形镜控制的理想选择。