首页 光学成像 成像系统 显微镜 极紫外和软x射线辐射EUV显微镜 (Metrology计量学 无损亚纳米级次表面成像) 极紫外和软x射线辐射EUV显微镜 (Metrology计量学 无损亚纳米级次表面成像)
  • 极紫外和软x射线辐射EUV显微镜 (Metrology计量学 无损亚纳米级次表面成像)

    三维无损成像技术在材料科学和医学等许多应用领域都非常重要。我们开发了一种成像技术,利用极紫外和软x射线辐射来获得纳米分辨率的横截面图像。 例如,我们能够无损地研究硅片或生物样品中的近表面结构。 在下边的图片中,你可以看到几个埋在硅下的金层。它们的位置可以用我们的计量仪测量,精度低于1nm。这些层位于表面下的110 nm和128 nm处。

    产品特点无损亚纳米成像;反射式光学设计;轴向分辨率<30nm;轴向位置精度<1nm;高材料对比度

    产品货号E80100170

    应用领域半导体制造 | 材料科学 | 生物医学 | 纳米技术研究 | 工业精密检测

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    Moli

    电话:13061644116

    邮箱:moli@microphotons.com

    主要参数
  • 核心参数
  • 轴向分辨率(厚度) 轴向位置精度

    <30nm <1nm

  • 尺寸图
  • 特性曲线

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    可选配置表

    产品资料

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