单通道PZT驱动电压模块

该单通道控制器为916B型光纤拉伸器的压电致动器提供连续可变的0至+150V电压。压电致动器是大电容负载，需要大电流容量的驱动器。所需电源为115V AC，0. 2Amp。此外，还提供在220V AC下使用的控制器。

双通道PZT驱动电压模块

该单通道控制器为916B型光纤拉伸器的压电致动器提供连续可变的0至+150V电压。压电致动器是大电容负载，需要大电流容量的驱动器。所需电源为115V AC，0. 2Amp。此外，还提供在220V AC下使用的控制器。

Brewster Windows 布鲁斯特 ZnSe硒化锌窗口片 直径25mm

布儒斯特窗口的入射角等于“布儒斯特角”，对于 10.6 毫米的 ZnSe，该角为 67.4 度。为了使入射光束呈方形，它们比宽度长约 2.5 倍。它们完全透射 P 平面中的线偏振光，并反射大约 50% 的 S 平面分量。因此，它们可用于增强（“清理”）偏振或通过绕光束轴旋转偏振，它们可用作衰减器。涂层版本增强了 S 分量的反射率，但以限制功率为代价。通常，布鲁斯特窗是成对使用的。

Phoenix光子偏振态(SOP)全光纤偏振扫描控制器 1300-1610nm

Phoenix光子偏振态(SOP)扫描控制器通过三个可变的全光纤波片，让偏振态的分布覆盖整个庞加莱球面，从而能够将任何输入偏振态（SOP）转换为所需的输出偏振度（DOP）。该设备允许输出偏振态的连续变化，也可用于反馈电路或开环配置中的偏振控制。

Brewster Windows 布鲁斯特 ZnSe硒化锌窗口片 直径53mm

布儒斯特窗口的入射角等于“布儒斯特角”，对于 10.6 毫米的 ZnSe，该角为 67.4 度。为了使入射光束呈方形，它们比宽度长约 2.5 倍。它们完全透射 P 平面中的线偏振光，并反射大约 50% 的 S 平面分量。因此，它们可用于增强（“清理”）偏振或通过绕光束轴旋转偏振，它们可用作衰减器。涂层版本增强了 S 分量的反射率，但以限制功率为代价。通常，布鲁斯特窗是成对使用的。

VUV级抛光氟化镁(MgF2)窗片 0.12-7um 13.0mmX1.0mm

MgF2能很好地透过VUV区域到莱曼-阿尔法氢线（121nm）甚至更远。氟化镁主要用于UV光谱，并且对于准分子激光具有很好的应用。MgF2通过真空Stockbarger技术在各种直径的铸块中生长。 氟化镁是一种坚韧的材料，并且抛光良好。 因此，它可以工作到zui高标准。 MgF2具有微弱的双折射性质，并且通常提供垂直于窗面切割的光轴。

1550nm 超高速光纤扰偏器 300KHz

Microphotons的光纤扰偏器是具有产业优秀的高速和低光学损耗性能的非机械装置，为偏振随机化提供了优秀解决方案。 光纤扰偏器基于作为相位延迟器的快速电光材料，其具有分别在0度，45度和0度定向的三个板，分别以三个固定频率驱动。该器件由12V电源供电，无需控制信号，十分方便。它将任何输入的偏振态转换为完全覆盖庞加莱球的随机偏振态，主要应用于光纤通信、光纤传感等领域。可 广 泛 应 用 于 φ -OTDR、BOTDR、OFDR等各种需要脉冲调制的光纤传感系统中。

1550nm超高速光纤扰偏器 2MHz

Microphotons的光纤扰偏器是具有产业优秀的高速和低光学损耗性能的非机械装置，为偏振随机化提供了优秀解决方案。 光纤扰偏器基于作为相位延迟器的快速电光材料，其具有分别在0度，45度和0度定向的三个板，分别以三个固定频率驱动。该器件由12V电源供电，无需控制信号，十分方便。它将任何输入的偏振态转换为完全覆盖庞加莱球的随机偏振态，主要应用于光纤通信、光纤传感等领域。可 广 泛 应 用 于 φ -OTDR、BOTDR、OFDR等各种需要脉冲调制的光纤传感系统中。

1550nm超高速光纤扰偏器 5MHz

Microphotons的光纤扰偏器是具有产业优秀的高速和低光学损耗性能的非机械装置，为偏振随机化提供了优秀解决方案。 光纤扰偏器基于作为相位延迟器的快速电光材料，其具有分别在0度，45度和0度定向的三个板，分别以三个固定频率驱动。该器件由12V电源供电，无需控制信号，十分方便。它将任何输入的偏振态转换为完全覆盖庞加莱球的随机偏振态，主要应用于光纤通信、光纤传感等领域。可 广 泛 应 用 于 φ -OTDR、BOTDR、OFDR等各种需要脉冲调制的光纤传感系统中。

IR级抛光氟化钡Ba​F2窗片 圆形 0.15-12um 10mm Ø x 0.5mm

氟化钡能很好应用于光谱组件。 氟化钡通常适用于无源IR波段（8~14μm）的应用，通常用作热成像的窗片。 对于相同厚度，比氟化钙的透射范围进一步延伸到IR中大约1mm。 主要用于IR应用，并注意到具有IR抛光的视窗可能在由低纯度BaF 2晶体制成的VUV中具有受限的透射性能。 氟化钡通过真空Stockbarger技术生长。 与CaF2不同，BaF2不以天然状态存在，并且所有材料必须化学合成，使得BaF2生产相对昂贵。氟化钡容易裂开，对热冲击非常敏感。它抛光好可以蚀刻。不是所有的晶体都是由zui高等级的化学品制造的; 对于IR级光学器件，较低规格是足够的并且降低了成本，然而在UV和VUV中的透射受到限制。zui高纯度的氟化钡VUV材料可以被认为是快闪烁级。

IR级抛光氟化钡Ba​F2窗片 圆形 打孔 0.15-12um 32mm Ø x 3mm

氟化钡能很好应用于光谱组件。 氟化钡通常适用于无源IR波段（8~14μm）的应用，通常用作热成像的窗片。 对于相同厚度，比氟化钙的透射范围进一步延伸到IR中大约1mm。 主要用于IR应用，并注意到具有IR抛光的视窗可能在由低纯度BaF 2晶体制成的VUV中具有受限的透射性能。 氟化钡通过真空Stockbarger技术生长。 与CaF2不同，BaF2不以天然状态存在，并且所有材料必须化学合成，使得BaF2生产相对昂贵。氟化钡容易裂开，对热冲击非常敏感。它抛光好可以蚀刻。不是所有的晶体都是由zui高等级的化学品制造的; 对于IR级光学器件，较低规格是足够的并且降低了成本，然而在UV和VUV中的透射受到限制。zui高纯度的氟化钡VUV材料可以被认为是快闪烁级。

IR级抛光氟化钡Ba​F2窗片 方形 0.15-12um 10x10x1mm

氟化钡能很好应用于光谱组件。 氟化钡通常适用于无源IR波段（8~14μm）的应用，通常用作热成像的窗片。 对于相同厚度，比氟化钙的透射范围进一步延伸到IR中大约1mm。 主要用于IR应用，并注意到具有IR抛光的视窗可能在由低纯度BaF 2晶体制成的VUV中具有受限的透射性能。 氟化钡通过真空Stockbarger技术生长。 与CaF2不同，BaF2不以天然状态存在，并且所有材料必须化学合成，使得BaF2生产相对昂贵。氟化钡容易裂开，对热冲击非常敏感。它抛光好可以蚀刻。不是所有的晶体都是由zui高等级的化学品制造的; 对于IR级光学器件，较低规格是足够的并且降低了成本，然而在UV和VUV中的透射受到限制。zui高纯度的氟化钡VUV材料可以被认为是快闪烁级。