均匀相位掩模光栅

概述
相位掩膜光栅是通过光栅中晶格形状和晶体表面倾斜斜角在定位晶格上刻蚀出自身相位特征的特殊构造而形成。

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均匀相位掩模光栅

相位掩膜光栅是通过光栅中晶格形状和晶体表面倾斜斜角在定位晶格上刻蚀出自身相位特征的特殊构造而形成。

产品信息产品型号 波长光栅周期光栅尺寸 操作

1526nm 均匀相位掩模光栅 MASK-1526-1054-10X10 1526nm1054.3 nm10 mm x 10 mm 加入询价单

1538nm 均匀相位掩模光栅 MASK-1538-1062-10X10 1538nm1062.8 nm10 mm x 10 mm 加入询价单

1550nm 均匀相位掩模光栅 MASK-1550-1071-25X10 1550nm1071.2 nm25 mm x 10 mm 加入询价单

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